濺射技術概念：

濺射技術是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、記錄介質、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。

濺射靶材應用：

濺射靶材主要應用于電子及信息產業，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等；亦可應用于玻璃鍍膜領域；還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。西安格美金屬材料有限公司鎢靶材和鉬靶材廣泛應用于光伏、TFT-LCD等現代工業。

濺射靶材對純度有較高的要求，一般鎢鉬濺射靶材要求純度達到99.95%以上，并且具有良好的密度和耐腐蝕性能。

產品材料：

鎢靶材、鉬靶材、鎢鉬合金靶材、以及鉬鈮合金